Name: Updates in Advanced Lithography (en Inglés)
Price: 168710.00 CLP
Availability: InStock
Author: Hosaka, Sumio
ISBN: 9789535111757

portada Updates in Advanced Lithography (en Inglés)

Updates in Advanced Lithography (en Inglés)

Formato

Libro Físico

Editorial

Intechopen

Autor

Hosaka, Sumio

Idioma

Inglés

N° páginas

264

Encuadernación

Tapa Dura

Dimensiones

24.4 x 17.0 x 1.6 cm

Peso

0.62 kg.

ISBN13

9789535111757

Categorías

Física de la materia condensada (física del estado líquido y del estado sólido)

Updates in Advanced Lithography (en Inglés)

Hosaka, Sumio (Autor) · Intechopen · Tapa Dura

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Reseña del libro "Updates in Advanced Lithography (en Inglés)"

Advanced lithography grows up to several fields such as nano-lithography, micro electro-mechanical system (MEMS) and nano-phonics, etc. Nano-lithography reaches to 20 nm size in advanced electron device. Consequently, we have to study and develop true single nanometer size lithography. One of the solutions is to study a fusion of top down and bottom up technologies such as EB drawing and self-assembly with block copolymer. In MEMS and nano-photonics, 3 dimensional structures are needed to achieve some functions in the devices for the applications. Their formation are done by several methods such as colloid lithography, stereo-lithography, dry etching, sputtering, deposition, etc. This book covers a wide area regarding nano-lithography, nano structure and 3-dimensional structure, and introduces readers to the methods, methodology and its applications.