Name: Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography (Nanoscience and Technology) (en Inglés)
Price: 190230.00 CLP
Availability: InStock
Author: Seongbo Shim; Youngsoo Shin
ISBN: 9783319762937

portada Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography (Nanoscience and Technology) (en Inglés)

Formato

Libro Físico

Editorial

Springer

Autor

Seongbo Shim; Youngsoo Shin

Año

2018

Idioma

Inglés

N° páginas

138

Encuadernación

Tapa Dura

ISBN13

9783319762937

N° edición

Categorías

Nanociencias

Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography (Nanoscience and Technology) (en Inglés)

Seongbo Shim; Youngsoo Shin (Autor) · Springer · Tapa Dura

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Reseña del libro "Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography (Nanoscience and Technology) (en Inglés)"

This book discusses physical design and mask synthesis of directed self-assembly lithography (DSAL). It covers the basic background of DSAL technology, physical design optimizations such as placement and redundant via insertion, and DSAL mask synthesis as well as its verification. Directed self-assembly lithography (DSAL) is a highly promising patterning solution in sub-7nm technology.